尼康紫外线灯13KW电源

i线步进式光刻机NSR-SF140适用于半导体器件的制造。性能：Resolution分辨率≦280nm，Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength)，Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield，曝光范围26mm×33mm，Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台，实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”，同时晶圆工作台可高速运转，从而大幅度降低了振动，并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路，有利于工作室内的散热。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯，对应型号：NLi-7500AL2。强劲光明，金属卤素灯带你迈向更明亮的未来。尼康紫外线灯13KW电源

制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊的机械工艺设计。例如Mycro N&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场，许多光刻机，采用了LED照明。对准系统共有两套，具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对（光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用）。CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。工件台顾名思义就是放工件的平台，光刻工艺主要的工件就是掩模和基片。曝光工艺用紫外线灯i线步进式光刻机NSR-2205i12,用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2KW，型号：NLi-2011AHL。

紫外线固化灯：

型号：UVL-14KM4-O

种类：金属卤素灯

额定功率：14KW

电流：28A

电压：49.5V

照度：38.5mW/CM²

发光管长度：500mm

电压范围：450～550V；点灯检测结果：495V。电流范围：24～32A；点灯检测结果：38.2A。功率：14，020W；365nm紫外线强度38.5mw/cm2。

被照射物体表面温度随着功率增大而变大，功率14KW是：100℃±3％

主要用处:紫外线固化设备。

特点①UVResin固化,框胶封边材料固化。

②主波长以365nm为中心构成。

③容量;可制作1kw到40kw，lamp隙间长可制作100mm到2700mm

④lampOutDia可到14mm~50mm

    罢外线灯是一种能发射露外线的装置，是观察样品黄光和磷光特征必需的工具，也是用于杀消毒的一种物理手段。波长在10~400nm的范围内。相关的灯有强紫外线高压**灯、**金属卤素灯、晒版灯、毛细管超高压**灯、光清洗灯、光盘**灯、紫外线铁灯杀菌消毒灯、短弧气气灯、准分子放电灯。长期以来，紫外线消毒灯是室内空气消毒的高效选择，然而它也可能将空气中的化合物转化为潜在的有害物质。如今，研究人员针对紫外线消毒灯的影响进行建模，发现其在消毒作用和产生空气污染物间存在利弊权衡。研究发现，波长在222纳米的紫外线灯更适合用于室内消毒，因为这种波长的光对人类更安全。相关论文12月2日发表于《环境科学与技术通讯》通常的紫外线消毒灯波长约为254纳米，属于UVC波段，消毒能力强。然而，这一波段的紫外线光可能灼伤眼睛或皮肤，增加眼部疾病和皮肤*的风险。此外，UVC波段的光可能引发空气质量问题，如分解空气中的分子，由此形成氢氧自由基和臭氧等强氧化剂。这些氧化剂可把空气中的挥发性有机化合物转化为过氧化物和醛酮化合物。 我们的紫外线灯可降低能源消耗和运营成本，提高生产效率和产品质量.

a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）软用紫外线点亮半导体，点亮科技进步的未来。稳压电源紫外线灯13KW电源

告别暗淡，迎接光明，超高压汞灯、金属卤素灯，工业紫外线灯新选择。尼康紫外线灯13KW电源

工件台为光刻机的一个关键，由掩模样片整体运动台（XY）、掩模样片相对运动台（XY）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。其中，样片调平机构包括球座和半球。调平过程中首先对球座和半球通上压力空气，再通过调焦手轮，使球座、半球、样片向上运动，使样片与掩模相靠而找平样片，然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成，调平上升过程初步调焦，调平完成锁紧球气浮后，样片和掩模之间会产生一定的间隙，因此必须进行微调焦。另一方面，调平完成进行对准，必须分离一定的对准间隙，也需要进行微调焦。抽拉掩模台主要用于快速上下片，由燕尾导轨、定位挡块和锁紧手轮组成。承片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。尼康紫外线灯13KW电源